装饰装潢,新乡seo优化,wordpress 微博时间,网站QQ互联教程Sentaurus TCAD是用于模拟半导体器件和工艺的工具之一#xff0c;可以帮助工程师设计电路元件#xff0c;优化半导体工艺和器件性能。主要功能包括#xff1a;半导体器件建模#xff08;用于建立各种半导体器件的物理模型工艺模拟#xff09;、半导体器件的制造工艺模拟可以帮助工程师设计电路元件优化半导体工艺和器件性能。主要功能包括半导体器件建模用于建立各种半导体器件的物理模型工艺模拟、半导体器件的制造工艺模拟以了解工艺参数如何影响器件性能、电子结构计算、 电热仿真、光学模拟、耦合分析等。 TCAD半导体器件建模仿真分析与应用 2023年12月22日-12月24日 (一) 软件操作系统教学 TCAD 软件入门 TCAD软件基本操作 软件的安装与配置 半导体器件建模概述 基于SDE的结构建模原理 高效的网格划分
结构建模 二维MOSFET的建模与SWB基本原理及操作 SDE图形化命令Scheme语法结构搭建布尔运算等 掺杂接触定义以及网格划分 工程化计算——在SWB中操作SDE工具 SWB输出文件类别和常见问题 数值求解 半导体器件数值求解 器件仿真中的物理模型简述 MOSFET静态特性求解/瞬态特性求解 隧穿模型以及NLM计算隧穿电流 碰撞电离与击穿特性仿真 基于spice模型的简单电路仿真
SVISUAL对数据的处理数据的可视化与导出 阈值电压SS开关比等参数的提取 电场、电势等其他量的可视化及参数提取 材料设置 模型参数修改与新材料建模 二维材料,如MoS2等新型材料 网格设置 精确仿真电磁场所需的网格划分标准 网格的优化 Math设置以及求解过程优化
工艺仿真 工艺仿真原理 工艺仿真基础操作 工艺仿真中的网格设置 版图绘制基础 Sprocess结构生成沉积、刻蚀等 (二) 案列应用实操教学 案例一 PN结的数值计算 案例二 传统硅基MOSFET的建模和求解 案例三 MoS2 FET 建模和求解 2D材料fet仿真建模
案例四 Ga2O3 FET 建模和求解 案例五 隧穿晶体管的建模 案例六 利用课程案例实现反相器环振的搭建与构造 案例七 基础的工艺仿真步骤操作 详细内容